欧州の移行を乗り切る：フォトレジスト剥離用途におけるN-メチル-2-ピロリドン

で急速に進化する半導体製造の分野では、N-メチル-2-ピロリドン（NMP フォトレジスト剥離工程における溶剤（溶剤）の使用は、特に欧州市場において厳しい監視の対象となっています。環境規制が強化され、持続可能な製造方法への需要が高まる中、関係者は従来の溶剤の使用を再評価し、より安全で規制に準拠した代替手段を模索しています。

フォトレジスト剥離におけるNMPの伝統的な役割

NMP半導体業界では、リソグラフィー工程におけるフォトレジスト層の除去効果から、長年にわたり高く評価されてきました。その強力な溶解力は、ポジ型およびネガ型フォトレジストの両方を溶解するのに特に効果的であり、クリーンで効率的なウェハ処理を促進します。これにより、N-メチル-2-ピロリドン NMP は、マイクロ電気機械システム (MEMS)、自動車用電子機器、ウェーハレベル パッケージングなど、さまざまな用途で主力の溶剤として使用されています。

欧州市場における規制上の課題

NMPは有効性が高いにもかかわらず、欧州連合（欧州連合）のREACH規則において高懸念物質（SVHC）に分類されており、大きな懸念を引き起こしています。潜在的な生殖毒性やその他の健康リスクにより、厳しい使用制限が課せられており、メーカーは性能要件と規制遵守の両方を満たす代替品の検討を迫られています。

こうした課題に対応するため、メルク KGaAをはじめとする企業は、アリゾナ州® 910 RemoverをはじめとするNMPフリーのソリューションを開発しました。この製品は、高スループットと環境に優しい除去プロセスを実現し、業界の持続可能なイノベーションへの取り組みを強化しています。 

新たな選択肢と革新

NMPフリーのフォトレジスト除去剤への需要が高まり、溶剤配合の革新が促進されています。ジメチルスルホキシド（DMSO）などのバイオベース溶剤は、NMPと同等の性能を持ちながら、健康および環境リスクを低減できるため、その代替として注目を集めています。例えば、マイクロケミカルズ GmbHは、デバイス基板や金属膜との幅広い適合性を維持しながら、フォトレジストパターンの迅速な剥離と溶解を実現するAZ® 除去剤 920などの製品を発表しました。 

市場への影響と将来の見通し

からの移行NMPフォトレジスト剥離用途における溶剤の使用は、欧州の半導体業界における持続可能な製造方法への広範な移行を示しています。メーカーは、規制基準を満たすだけでなく、性能と費用対効果の両方を兼ね備えた溶剤の開発に研究開発投資を行っています。

業界が進化し続けるにつれて、化学メーカー、半導体企業、規制当局は、技術の進歩と環境への責任の両方を保証するソリューションの開発と導入において重要になります。